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              XUV/EUV寬帶軟X射線高分辨率光譜儀 2-100nm  

              XUV/EUV寬帶軟X射線高分辨率光譜儀 2-100nm
              具有高分辨率和效率的多功能光譜儀隨著在半導體制造中使用 13.5 nm輻射的 EUV 光刻技術的發展,極紫外輻射(EUV、XUV)已成為一個重要的工業意義。這導致對高分辨率和靈敏的診斷和測量技術的需求。因此,我們構建了一個模塊化的 XUV / EUV 和軟 X 射線光譜儀,可用于等離子體光譜學、源診斷和計量學。它te別適用于激光等離子體源(LPS)和高次諧波源(高次諧波產生high harmonic generation,HHG)。該光譜儀設計靈活,適用于多種應用。對于廣泛的幾何形狀,可以獲得非常高的光譜分辨率。通常,分辨率僅受檢測器系統像素大小的限制(XUV CCD 為 13.5 μm)。光譜儀的所有部件都是 UHV 級的。
               華北西南東北 Tina
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               西北華中華東華南 Lily
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               Lily@microphotons.com
              產品型號 1
              貨號 操作 名稱
              E80100177  XUV/EUV 寬帶軟X射線高分辨率光譜儀 2-100nm   [PDF] 2-100 nm 的光譜范圍; 高達 λ/Δλ > 10000 的高分辨率; 多功能設置:電動載物臺和自適應法蘭; 不透光的設置:可以集成遮光罩; 超高真空 (UHV; < 10-9 mbar) 條件; 在線操作模式&對準&光束檢測; 狹縫和無狹縫設置; 出色的信噪比 (SNR) 和最大的光收集效率;    價格 : ¥0 庫存/貨期:請咨詢客服
              總覽

              具有高分辨率和效率的多功能光譜儀

              隨著在半導體制造中使用 13.5 nm輻射的 EUV 光刻技術的發展,極紫外輻射(EUV、XUV)已成為一個重要的工業意義。這導致對高分辨率和靈敏的診斷和測量技術的需求。因此,我們構建了一個模塊化的 XUV / EUV 和軟 X 射線光譜儀,可用于等離子體光譜學、源診斷和計量學。它te別適用于激光等離子體源(LPS)和高次諧波源(高次諧波產生high harmonic generation,HHG)。

              該光譜儀設計靈活,適用于多種應用。對于廣泛的幾何形狀,可以獲得非常高的光譜分辨率。通常,分辨率僅受檢測器系統像素大小的限制(XUV CCD 為 13.5 μm)。光譜儀的所有部件都是 UHV 級的。


              通用參數

              寬帶高光譜分辨率

              普通光譜儀針對一個波長的特定分辨率進行了優化。相比之下,我們的專業設計可在寬帶寬下實現高分辨率。例如,我們的 XUV 光譜儀在 12-41 nm 的整個帶寬內達到<0.08 2="" 100="" nm="">10000 的超高分辨率。

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              操作方式及可用性

              我們靈活的光譜儀提供多種操作模式,可以在操作過程中改變。

              通過使用行程范圍為幾厘米的多軸電動工作臺,用戶可以輕松地對設備進行校準。此外,可以在光束路徑中在線放置不同的光學器件來測量不同的光束特性。該光譜儀具有以下工作模式:(1)XUV光束檢測,(2)角分辨光譜,(3)高效、光譜分辨率高的成像光譜。

              下圖為角分辨光譜(a、b)和成像光譜(c、d)的測量結果。



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              我們提供

              優質產品

              為您的應用程序完全定制

              2-100 nm 的光譜范圍

              高達 λ/Δλ > 10000 的高分辨率

              多功能設置:電動載物臺和自適應法蘭

              不透光的設置:可以集成遮光罩

              超高真空 (UHV, < 10-9 mbar) 條件

              在線操作模式&對準&光束檢測

              狹縫和無狹縫設置

              出色的信噪比 (SNR) 和Max. 的光收集效率













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